16NP – SupaPore NP

El SupaPore NP es un cartucho filtrante desarrollado para procesos que exigen pureza absoluta, uniformidad de rendimiento y confiabilidad en la eliminación de partículas y microorganismos. Forma parte de la línea avanzada de filtración de Amazon Filters, y se utiliza en aplicaciones donde la calidad del fluido y la consistencia del resultado son esenciales, como en la industria farmacéutica, de alimentos y bebidas, electrónica y tratamiento de agua ultrapura.

El SupaPore NP – filtro de membrana de Nylon 66 para alta pureza emplea una membrana de Nylon 66 naturalmente hidrofílica, la cual no contiene agentes humectantes ni aditivos que puedan liberar extractables o interferir en el proceso. Esta característica permite una humectación inmediata con agua o disoluciones acuosas, eliminando la necesidad de pretratamientos o acondicionamientos previos, y ofreciendo un tiempo de enjuague corto hasta alcanzar resistividades de 18 MΩ·cm, típicas del agua ultrapura.

Descripción

La estructura del SupaPore NP está compuesta por una membrana de Nylon 66 de poros finos y uniformes, soportada por un núcleo y jaula de polipropileno que aportan rigidez mecánica, estabilidad térmica y compatibilidad química. Todo el conjunto se ensambla mediante soldadura térmica controlada, sin el uso de adhesivos, pegamentos o resinas, lo que elimina completamente la migración de partículas o extractables y garantiza un filtrado limpio y reproducible incluso en procesos críticos.

Cada cartucho SupaPore NP – filtro de membrana de Nylon 66 para alta pureza es preenjuagado con agua ultrapura antes del ensamblaje y sometido a pruebas de integridad individuales, verificando que la membrana mantenga su uniformidad y que no existan defectos que puedan comprometer la eficiencia de retención. Este nivel de control asegura un rendimiento estable lote a lote, una cualidad indispensable en entornos validados o bajo normas GMP (Good Manufacturing Practices).

El SupaPore NP – filtro de membrana de Nylon 66 para alta pureza está disponible en una amplia gama de grados de filtración absoluta, con micronajes de 0,10 µm, 0,20 µm, 0,45 µm y 0,65 µm (Beta 5000), cubriendo desde filtraciones finales de control microbiológico hasta etapas de prefiltración en procesos de agua o soluciones farmacéuticas. Las longitudes disponibles van desde 64 mm (Junior) hasta 1016 mm (40″), con una superficie filtrante típica de 0,65 m² por cartucho de 10″, lo que garantiza altos caudales con baja caída de presión y excelente eficiencia de separación.

En términos de operación, el SupaPore NP soporta temperaturas de hasta 80 °C y una presión diferencial máxima de 4 bar en flujo directo, siendo recomendable cambiar el elemento al alcanzar 2,5 bar para conservar la eficiencia y prolongar la vida útil. Además, los cartuchos pueden sanitizarse mediante vapor, autoclave o agua caliente, utilizando la versión con tapas reforzadas, lo que permite su uso repetido en procesos higiénicos o estériles.

El SupaPore NP – filtro de membrana de Nylon 66 para alta pureza está disponible en dos grados principales:

  • Grado general, destinado a aplicaciones industriales o de proceso donde se requiera control de partículas finas o clarificación.

  • Grado electrónico, con especificaciones más estrictas en contenido de extractables, ideal para la producción de agua ultrapura y fluidos electrónicos.

Aplicaciones del SupaPore NP

El SupaPore NP se adapta a múltiples sectores industriales que demandan pureza y consistencia:

  • Alimentos y bebidas: filtración fina y control microbiológico en agua de proceso, productos envasados y bebidas fermentadas, así como protección de membranas finales en plantas de agua potable o embotellado.

  • Farmacéutica y biotecnología: reducción de biocarga y filtración de ingredientes activos o excipientes líquidos en la fabricación de medicamentos orales, oftálmicos y biológicos, garantizando esterilidad y pureza.

  • Tratamiento de agua y electrónica: producción de agua de alta pureza, filtración final en sistemas de ósmosis inversa o nanofiltración, y control de partículas en líneas de proceso de semiconductores y microelectrónica.